特許

J-GLOBAL ID：200903032538725298

レジスト組成物

発明者： 尾家 正行 ,  田中 秀行 ,  阿部 信紀
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
代理人 (1件)： 西川 繁明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-210014
公開番号（公開出願番号）：特開平5-034922
出願日： 1991年07月26日
公開日（公表日）： 1993年02月12日
要約：

【要約】【目的】 感度、解像性および保存安定性などのレジスト特性に優れ、遠紫外線やKrFエキシマレーザー光を用いるリソグラフィーに適したレジスト材料を提供すること。【構成】 アルカリ可溶性フェノール樹脂、活性光線の照射により酸を生成可能な化合物、および酸の存在下で架橋可能な化合物を含有するレジスト組成物において、アルカリ可溶性フェノール樹脂がアルカリ可溶性部分水添フェノール樹脂であり、かつ、酸の存在下で架橋可能な化合物がテトラアルコキシメチルグリコールウリル単核体を90重量%以上含有するグリコールウリルホルムアルデヒド樹脂であることを特徴とするレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性フェノール樹脂、活性光線の照射により酸を生成可能な化合物、および酸の存在下で架橋可能な化合物を含有するレジスト組成物において、アルカリ可溶性フェノール樹脂がアルカリ可溶性部分水添フェノール樹脂であり、かつ、酸の存在下で架橋可能な化合物がテトラアルコキシメチルグリコールウリル単核体を90重量%以上含有するグリコールウリルホルムアルデヒド樹脂であることを特徴とするレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027