特許
J-GLOBAL ID：200903032549951559

芳香族液晶ポリエステル及びその用途

発明者：
細田 朋也

細田 朋也 について

, 
岡本 敏

岡本 敏 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (3件)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-038854
公開番号（公開出願番号）：特開2005-272819
出願日： 2005年02月16日
公開日（公表日）： 2005年10月06日
要約：
【課題】 誘電損失が抑制され、耐熱性に優れたフィルムを与えるのみならずフルム加工性にも優れる芳香族液晶ポリエステル等を提供する。【解決手段】[1] 2-ヒドロキシ-6-ナフトエ酸に由来する構造単位(I)、下式(1)で示されるジオールに由来する構造単位(II)、2,6-ナフタレンジカルボン酸に由来する構造単位(III)および下式(2)で示されるジカルボン酸に由来する構造単位(IV)を含有し、これら(I)〜(IV)の構造単位の合計に対して(I)の構造単位が40〜74.8モル%、(II)の構造単位が12.6〜30モル%、(III)+(IV)の構造単位が12.6〜30モル%であり、かつ(III)/{(III)+(IV)}≧0.5の関係を満たす芳香族液晶ポリエステル。[2]重量平均分子量Mwが25000以上であることを特徴とする上記[1]のポリエステル。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
2-ヒドロキシ-6-ナフトエ酸に由来する繰り返し構造単位(I)、下式(1)で示されるフェニレン系ジオールに由来する繰り返し構造単位(II)、2,6-ナフタレンジカルボン酸に由来する繰り返し構造単位(III)および下式(2)で示されるフェニレン系ジカルボン酸に由来する繰り返し構造単位(IV)を含有し、
IPC (3件)：
C08G63/60 ,  B32B15/08 ,  C08L67/00
FI (3件)：
C08G63/60 ,  B32B15/08 104Z ,  C08L67/00
Fターム (42件)：
4F100AB01B ,  4F100AK41A ,  4F100BA02 ,  4F100BA07 ,  4F100GB41 ,  4F100JA07A ,  4F100JG05 ,  4F100JJ03 ,  4F100YY00A ,  4J002BC022 ,  4J002CC032 ,  4J002CC182 ,  4J002CC192 ,  4J002CD002 ,  4J002CF002 ,  4J002CF181 ,  4J002DE096 ,  4J002DE136 ,  4J002DE146 ,  4J002DE236 ,  4J002DH046 ,  4J002DJ016 ,  4J002DJ036 ,  4J002FD012 ,  4J002FD062 ,  4J029AA06 ,  4J029AB01 ,  4J029AB07 ,  4J029AC02 ,  4J029AD01 ,  4J029AE03 ,  4J029BB05A ,  4J029BB10A ,  4J029BB15A ,  4J029CB06A ,  4J029CB10A ,  4J029CB14A ,  4J029CC06A ,  4J029EC06A ,  4J029HA01 ,  4J029HB01 ,  4J029KB02
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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