特許
J-GLOBAL ID:200903032556397931
光学基台の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
岩橋 文雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-038366
公開番号(公開出願番号):特開2000-244138
出願日: 1999年02月17日
公開日(公表日): 2000年09月08日
要約:
【要約】【課題】 配線パターンが複雑化したため配線基板の平面投影面積が増大し、その面積を減少させるために配線基板に折り曲げ等の加工をしようとしても、基台を折り曲げれぱ配線パターンの破損等が生じる可能性があり、配線パターン形成後は基台を加工することが出来なかった。【解決手段】 板状の基台材料1にブリッジ部2aを設けて概略の展開形状に抜いた状態で絶縁被膜および配線パターン4を印刷し、プレス加工等によって所定形状の光学基台を形成する。
請求項(抜粋):
第一の工程で平板状部材に光学基台の展開形状が複数のブリッジ部で保持されるように抜き加工を行い、第二の工程で前記第一の工程の平板状部材の展開形状に絶縁層と配線パターンとオーバーコート層と前記配線パターンの端部に接続端子を形成し、第三の工程で展開形状を前記ブリッジ部で切断し、第四の工程で所定形状になるように折り曲げ加工を行なうことを特徴とする光学基台の製造方法。
IPC (4件):
H05K 5/02
, G11B 7/12
, G11B 7/22
, H05K 3/00
FI (4件):
H05K 5/02 M
, G11B 7/12
, G11B 7/22
, H05K 3/00 J
Fターム (12件):
4E360EE04
, 4E360EE20
, 4E360GA53
, 4E360GB01
, 5D119AA01
, 5D119AA38
, 5D119BA01
, 5D119FA33
, 5D119HA68
, 5D119JC04
, 5D119KA43
, 5D119NA03
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