特許
J-GLOBAL ID：200903032577960377
レチクル
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森 哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-163008
公開番号（公開出願番号）：特開平7-074074
出願日： 1993年06月30日
公開日（公表日）： 1995年03月17日
要約：
【要約】【目的】ベストフォーカス位置及び最適な現像ローディング効果を、正確に且つ短時間で簡単に調べることが可能なレチクルを提供する。【構成】独立のラインパターン1と独立のスペースパターン2とを同一領域に形成したレチクル。
請求項（抜粋）：
縮小投影露光装置に使用するレチクルにおいて、孤立したラインパターンと孤立したスペースパターンとを同一領域に形成したことを特徴とするレチクル。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 502 V
, H01L 21/30 515 F
, H01L 21/30 502 P
