特許

J-GLOBAL ID：200903032580290927

純水製造装置

発明者： 埜村 誠
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-112464
公開番号（公開出願番号）：特開2000-301145
出願日： 1999年04月20日
公開日（公表日）： 2000年10月31日
要約：

【要約】【課題】発電所、医薬品製造所、半導体製造工場などで用いられる、高純度の水質が要求される純水の製造に適した、特に、シリカ及びホウ素を極低濃度まで除去して、高い水質の純水を得ることができる純水製造装置を提供する。【解決手段】(A)被処理水のpHを9.2以上に調整するpH調整機構、(B)pHが調整された被処理水が通水される逆浸透膜装置、(C)膜透過水が通水される強塩基性アニオン交換樹脂塔及び(D)強塩基性アニオン交換樹脂塔の流出水が通水されるカチオン交換樹脂塔を備えてなることを特徴とする純水製造装置。

請求項（抜粋）：

(A)被処理水のpHを9.2以上に調整するpH調整機構、(B)pHが調整された被処理水が通水される逆浸透膜装置、(C)膜透過水が通水される強塩基性アニオン交換樹脂塔及び(D)強塩基性アニオン交換樹脂塔の流出水が通水されるカチオン交換樹脂塔を備えてなることを特徴とする純水製造装置。

IPC (2件)：

C02F 1/42 ,  C02F 1/44

FI (2件)：

C02F 1/42 A ,  C02F 1/44 J

Fターム (26件)：

4D006GA03 ,  4D006KA02 ,  4D006KA72 ,  4D006KB11 ,  4D006KB12 ,  4D006KB17 ,  4D006KB30 ,  4D006KD17 ,  4D006KE15Q ,  4D006KE15R ,  4D006PB06 ,  4D006PB23 ,  4D006PB27 ,  4D006PC03 ,  4D006PC31 ,  4D006PC32 ,  4D006PC42 ,  4D025AA04 ,  4D025AB05 ,  4D025AB17 ,  4D025BA08 ,  4D025BA15 ,  4D025BB04 ,  4D025CA03 ,  4D025CA10 ,  4D025DA05