特許

J-GLOBAL ID：200903032581777633

露光方法及び露光装置

発明者： 渥美 しのぶ ,  萩原 茂
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 前田 均 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-114721
公開番号（公開出願番号）：特開2000-306813
出願日： 1999年04月22日
公開日（公表日）： 2000年11月02日
要約：

【要約】【課題】 露光装置のレーザ光源が予期しない時期に寿命に達してメンテナンスをしなければならない事態に至ることを防止し、予定通りの生産計画に従ってマイクロデバイスを製造できるようにすることである。【解決手段】 レーザ光源のレーザ発振器に印加する高電圧値HVを、レーザ光源の寿命を予測するためのパラメータとしてモニタし、この印加電圧HVの所定時間当たりの平均値が予め決められた所定のしきい値HVmax (例えば、印加電圧の仕様上の上限値の90%)を逸脱すると判断した場合に、出力するパルスエネルギEの制御の目標値としての設定エネルギ値を、例えば、E1からE2に引き下げる。レーザ光源の寿命が近づいてきた場合に、印加電圧HVの平均値が低下するので、生産計画に適合させるべく寿命を延長できる。

請求項（抜粋）：

パターンが形成されたマスクを介してレーザ光源からのレーザ光で基板を露光する露光方法において、前記レーザ光源の寿命を予測するためのパラメータを検出し、該パラメータが予め決められた所定のしきい値を逸脱する場合に該レーザ光源の出力を調整することを特徴とする露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 502 ,  H01S 3/00

FI (4件)：

H01L 21/30 515 B ,  G03F 7/20 502 ,  H01S 3/00 G ,  H01L 21/30 516 D

Fターム (25件)：

2H097AA03 ,  2H097CA13 ,  2H097GB01 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  2H097LA20 ,  5F046BA04 ,  5F046CA04 ,  5F046CA05 ,  5F046CB02 ,  5F046CB05 ,  5F046CB13 ,  5F046CB23 ,  5F046DA01 ,  5F046DA02 ,  5F046DB01 ,  5F046DB03 ,  5F046DD01 ,  5F046DD06 ,  5F072AA06 ,  5F072HH02 ,  5F072JJ03 ,  5F072JJ05 ,  5F072RR05 ,  5F072YY09