特許
J-GLOBAL ID：200903032582915010
マルチビーム走査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
有我 軍一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-325643
公開番号（公開出願番号）：特開平7-181410
出願日： 1993年12月24日
公開日（公表日）： 1995年07月21日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、複数の光ビームを同時に走査する例えば、画像形成装置に搭載されるマルチビーム走査装置に関し、光ビームが形成する挟角を変更することにより、光ビームの副走査方向の走査間隔を簡易に変更可能にして、多種の画素密度の画像を同一の装置で形成可能にすることを目的とする。【構成】 半導体レーザ11、12と、光ビームR1、R0を平行光束にするコリメータレンズ13、14と、ビームR1を反射する反射ミラー17と、ビームR1、R0をその入射角に応じて反射または透過して合成し出射する偏向ビームスプリッタ18と、合成されたビームR1、R0を偏向するポリゴンミラー19と、回転軸24bに支持され反射ミラー17を一面側に固着された可動部24aと、可動部24aの他面側に固着された圧電素子25とを備え、画素密度に基づいて圧電素子25が可動部24aを回転させミラー17のビームR1に対する角度を副走査方向に変更する。
請求項（抜粋）：
2個の半導体レーザと、該半導体レーザから出射された光ビームを各々平行光束にするコリメータレンズと、一方の光ビームの光軸上に配設され、該光ビームを所定方向に反射する反射ミラーと、該反射ミラーにより反射された光ビームの光軸と他方の光ビームの光軸との交叉位置に配設され、これら光ビームを入射角に応じて反射または透過してその光軸を近接させ出射するビーム合成手段と、該ビーム合成手段から出射された光ビームを偏向し走査する光偏向器と、を備え、一方および他方の光ビームを被走査面上に光走査して画像を形成するマルチビーム走査装置であって、前記反射ミラーの一方の光ビームに対する角度を、被走査面に形成する画像の画素密度に基づいて副走査方向に変更させる角度変更手段を設けたことを特徴とするマルチビーム走査装置。
IPC (3件)：
G02B 26/10
, B41J 2/44
, G02B 7/198
B41J 3/00 D
, G02B 7/18 B
