特許
J-GLOBAL ID:200903032610273224
ポジ型レジスト組成物
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
, 栗宇 百合子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-158822
公開番号(公開出願番号):特開2004-004227
出願日: 2002年05月31日
公開日(公表日): 2004年01月08日
要約:
【課題】160nm以下、具体的にはF2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源使用時に十分な透過性を示し、且つラインエッジラフネス、現像欠陥、スカム発生が改善されたポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)特定の繰り返し単位と、特定の繰り返し単位とを有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び(B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。
請求項(抜粋):
(A)下記一般式(I)で表される繰り返し単位と、下記一般式(II)〜(IV)で表される繰り返し単位の群から選ばれる繰り返し単位の少なくとも1種とを有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び
(B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物
を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (8件):
G03F7/039
, C08F212/14
, C08F214/00
, C08F216/14
, C08F220/10
, C08F220/42
, C08F232/08
, H01L21/027
FI (8件):
G03F7/039 601
, C08F212/14
, C08F214/00
, C08F216/14
, C08F220/10
, C08F220/42
, C08F232/08
, H01L21/30 502R
Fターム (85件):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AA04
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB08
, 2H025CB14
, 2H025CB16
, 2H025CB41
, 2H025CB43
, 2H025CB45
, 2H025FA17
, 4J100AB07Q
, 4J100AC07Q
, 4J100AC53Q
, 4J100AC54Q
, 4J100AE09P
, 4J100AE38P
, 4J100AE39P
, 4J100AL08P
, 4J100AL26P
, 4J100AM03Q
, 4J100AR09Q
, 4J100AR11Q
, 4J100BA01P
, 4J100BA01Q
, 4J100BA02Q
, 4J100BA03P
, 4J100BA03Q
, 4J100BA04P
, 4J100BA04Q
, 4J100BA05Q
, 4J100BA06Q
, 4J100BA10P
, 4J100BA10Q
, 4J100BA14P
, 4J100BA14Q
, 4J100BA15P
, 4J100BA15Q
, 4J100BA16Q
, 4J100BA20P
, 4J100BA20Q
, 4J100BA22P
, 4J100BA22Q
, 4J100BA29P
, 4J100BA29Q
, 4J100BA35P
, 4J100BA37P
, 4J100BA37Q
, 4J100BA38P
, 4J100BA38Q
, 4J100BA40P
, 4J100BA40Q
, 4J100BA41P
, 4J100BA41Q
, 4J100BA53P
, 4J100BA53Q
, 4J100BB07P
, 4J100BB07Q
, 4J100BB18P
, 4J100BB18Q
, 4J100BC02P
, 4J100BC02Q
, 4J100BC03P
, 4J100BC03Q
, 4J100BC04P
, 4J100BC04Q
, 4J100BC07P
, 4J100BC07Q
, 4J100BC08P
, 4J100BC08Q
, 4J100BC09P
, 4J100BC09Q
, 4J100BC43P
, 4J100BC43Q
, 4J100BC48P
, 4J100BC48Q
, 4J100BC49P
, 4J100BC49Q
, 4J100CA04
, 4J100JA38
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