特許

J-GLOBAL ID：200903032615038894

多孔質膜、その製造方法及びその用途

発明者： 船木 克彦 ,  進藤 清孝
出願人/特許権者： 三井化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-111442
公開番号（公開出願番号）：特開2003-306639
出願日： 2002年04月15日
公開日（公表日）： 2003年10月31日
要約：

【要約】【課題】低い誘電率を有し、なおかつ低い吸水特性、良好な機械強度と密着性能を有した半導体装置用の組成物及びそれからなる絶縁膜を提供するものである。【解決手段】少なくともA成分とB成分とからなる絶縁膜形成用組成物であって、A成分は、繰り返し単位中、少なくとも一般式(1)【化1】で表される繰り返し単位を有する含ケイ素樹脂であり、B成分は、沸点または分解点が220〜500°Cの範囲である化合物であることを特徴とする組成物。

請求項（抜粋）：

少なくともA成分とB成分とからなる絶縁膜形成用組成物であって、A成分は、繰り返し単位中、少なくとも一般式(1)【化1】(式中、R1、R2は、互いに独立に、水素原子、炭素数1から30の置換基を有してもよいアルキル基、炭素数1から30の置換基を有してもよいアルケニル基、炭素数1から30の置換基を有してもよいアルキニル基、または置換基を有してもよい芳香族基であり、R3は、-C≡C-、少なくとも1つの-C≡C-と連結した置換基を有してもよい-CH2-、少なくとも1つの-C≡C-と連結した炭素数2から30の置換基を有してもよいアルキレン基、少なくとも1つの-C≡C-と連結した炭素数2から30の置換基を有してもよいアルケニレン基、少なくとも1つの-C≡C-と連結した炭素数2から30の置換基を有してもよいアルキニレン基、少なくとも1つの-C≡C-と連結した置換基を有してもよい二価の芳香族基)で表される繰り返し単位を有する含ケイ素樹脂であり、B成分は、沸点または分解点が220〜500°Cの範囲である化合物であることを特徴とする組成物。

IPC (8件)：

C09D183/16 ,  C08G 77/60 ,  C08L 71/02 ,  C08L 83/16 ,  C09D 5/25 ,  C09D171/02 ,  C09D201/00 ,  H01L 21/312

FI (8件)：

C09D183/16 ,  C08G 77/60 ,  C08L 71/02 ,  C08L 83/16 ,  C09D 5/25 ,  C09D171/02 ,  C09D201/00 ,  H01L 21/312 C

Fターム (28件)：

4J002CH022 ,  4J002CP211 ,  4J002EC046 ,  4J002EC056 ,  4J002EP016 ,  4J002ER006 ,  4J002EW156 ,  4J002GQ01 ,  4J035HA01 ,  4J035HA02 ,  4J035HA06 ,  4J035JA00 ,  4J035LB20 ,  4J038DF012 ,  4J038DL171 ,  4J038NA04 ,  4J038NA12 ,  4J038NA21 ,  4J038PA19 ,  4J038PB09 ,  5F058AA04 ,  5F058AA08 ,  5F058AA10 ,  5F058AC03 ,  5F058AC10 ,  5F058AF04 ,  5F058AG01 ,  5F058AH02