特許

J-GLOBAL ID：200903032616106370

デブリシールド装置及びシールド部の製造方法

発明者： 西村 靖彦 ,  間瀬 晃 ,  松原 享治 ,  東 博純
出願人/特許権者： 株式会社トヨタマックス ,  トヨタ自動車株式会社 ,  株式会社豊田中央研究所
代理人 (1件)： 大川 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-171152
公開番号（公開出願番号）：特開2001-006896
出願日： 1999年06月17日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：

【要約】【課題】X線光学系へのデブリの付着を確実に防止し、フィルタを薄膜としてX線の透過率を高く維持するとともに、真空槽を常圧に戻すことなくデブリが付着したフィルタを容易に新品と交換できるようにする。【解決手段】開口部をもつ枠状の基板51と、少なくとも開口部の開口を覆いX線を透過可能で飛散粒子の通過を阻止するフィルタとよりなるシールド部を備え、フィルタを厚さ0.05〜 0.2μmの窒化ケイ素膜53と、窒化ケイ素膜53の表面に形成され窒化ケイ素膜53を補強する補強膜54とから構成した。窒化ケイ素膜53が基板51と薄膜の補強膜54で補強されているので、X線透過率を高く維持しつつ強度が向上する。

請求項（抜粋）：

X線光源装置に配置されX線光学系側への飛散粒子の通過を阻止するデブリシールド装置であって、開口部をもつ枠状の基板と、少なくとも該開口部の開口を覆いX線を透過可能で飛散粒子の通過を阻止するフィルタとよりなるシールド部を備え、該フィルタは厚さ0.05〜 0.2μmの窒化ケイ素膜と、該窒化ケイ素膜の表面に形成され該窒化ケイ素膜を補強する補強膜とからなることを特徴とするデブリシールド装置。

IPC (2件)：

H05G 2/00 ,  H05G 1/00

FI (2件)：

H05G 1/00 K ,  H05G 1/00 W

Fターム (3件)：

4C092AA06 ,  4C092AB21 ,  4C092BD14