特許

J-GLOBAL ID：200903032619240604

純水供給システム及び洗浄方法

発明者： 大見 忠弘
出願人/特許権者： 大見 忠弘
代理人 (1件)： 福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-188146
公開番号（公開出願番号）：特開平5-007705
出願日： 1991年07月02日
公開日（公表日）： 1993年01月19日
要約：

【要約】【目的】 水中に溶存する窒素及び酸素を脱気することにより、更には基体表面、特に絶縁膜が除去されたシリコンウエハの表面に対する水の濡れ性を改善することにより、純水をシリコン表面に接触させシリコン上の極微量の不純物をも完全に洗浄除去する洗浄方法及び純水の供給システムを提供することを目的とする。【構成】 純水供給システムは、ユースポイント14に純水を供給するための配管の途中に、水中の窒素及び酸素ガスを脱ガスするための手段10を配したことを特徴とする。更に、脱ガス手段と前記ユースポイントの間に純水と気体とが共存する容器を設け、該容器内部を窒素及び酸素を含有しない気体で充填することを特徴とする。また、気体洗浄方法は、上記純水供給システムにより供給される純水を用いて基体を洗浄することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

ユースポイントに純水を供給するための配管の途中に、水中の窒素及び酸素ガスを脱ガスするための手段を配したことを特徴とする純水供給システム。

IPC (2件)：

B01D 19/00 101 ,  H01L 21/304 341

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平1-211926
  
• 特開平3-154682
  
• 特開平4-040270