特許
J-GLOBAL ID:200903032625886796

テストウエハ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 明田 莞
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-302491
公開番号(公開出願番号):特開2001-127128
出願日: 1999年10月25日
公開日(公表日): 2001年05月11日
要約:
【要約】【課題】 従来のシリコンテストウエハに対して用いられているパーティクルカウンタをそのまま使用してパーティクルを精度良く評価できるとともに、膜厚モニターとして用いた場合にも膜厚の測定誤差が少ない耐久性の高い安価なテストウエハを提供しようとするものである。【解決手段】 ガラス状カーボンからなるテストウエハにおいて、少なくとも片面を鏡面研磨し、研磨面の表面粗さがRa0.005μm以下で、研磨面の凹凸の周期的な細かさを表す空間周波数成分の90%以上が1.2μm-1以下となるよう形成した。
請求項(抜粋):
少なくとも片面が鏡面研磨され、研磨された面の表面粗さがRa0.005μm以下で、ガラス状カーボンからなるテストウエハにおいて、研磨された面の凹凸の周期的な細かさを表す空間周波数成分の90%以上が1.2μm-1以下であることを特徴とするテストウエハ。
IPC (4件):
H01L 21/66 ,  C01B 31/02 101 ,  C04B 35/52 ,  H01L 21/02
FI (4件):
H01L 21/66 Z ,  C01B 31/02 101 A ,  H01L 21/02 B ,  C04B 35/52 A
Fターム (17件):
4G032AA07 ,  4G032BA04 ,  4G032GA17 ,  4G046CB01 ,  4G046CB03 ,  4G046CB06 ,  4G046CC01 ,  4G046CC02 ,  4M106BA05 ,  4M106CA41 ,  4M106DH01 ,  4M106DH03 ,  4M106DH32 ,  4M106DH56 ,  4M106DH57 ,  4M106DH60 ,  4M106DJ32

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