特許
J-GLOBAL ID:200903032626129778
高飽和磁化Fe-N系磁性体
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
上野 登
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-362149
公開番号(公開出願番号):特開2001-176715
出願日: 1999年12月21日
公開日(公表日): 2001年06月29日
要約:
【要約】【課題】 低コストであり、かつ、Fe以上の飽和磁化を発現する高飽和磁化Fe-N系磁性体を提供すること。【解決手段】 本発明に係る高飽和磁化Fe-N系磁性体は、α-Fe相とFe16N2相の混相を備えている。混相中のFe16N2相の生成割合は、10%〜90%が好ましい。このような高飽和磁化Fe-N系磁性体は、酸化鉄粉末、金属鉄粉等の原料粉末を水素還元した後、アンモニアを含むガスを用いて窒化し、原料粉末内部にFe16N2相を一部生成させることにより得られる。
請求項(抜粋):
α-Fe相とFe16N2相の混相を主相とし、該混相中のFe16N2相の生成割合が10%以上90%以下である高飽和磁化Fe-N系磁性体。
IPC (2件):
H01F 1/14
, C22C 38/00 303
FI (2件):
C22C 38/00 303 Z
, H01F 1/14 Z
Fターム (6件):
5E041AA11
, 5E041AA19
, 5E041BD00
, 5E041CA01
, 5E041NN01
, 5E041NN15
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