特許
J-GLOBAL ID:200903032637837995

ガス発生剤組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 古谷 馨 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-281421
公開番号(公開出願番号):特開2002-012493
出願日: 2000年09月18日
公開日(公表日): 2002年01月15日
要約:
【要約】【課題】 低毒性で、燃焼速度が大きく、燃焼温度が低い、エアバック用ガス発生器に使用するガス発生剤組成物の提供。【解決手段】 (a)テトラゾール誘導体、グアニジン誘導体又はそれらの混合物、(b)塩基性金属硝酸塩及び(c)バインダ及び/又はスラグ形成剤を含有するガス発生剤組成物。
請求項(抜粋):
(a)テトラゾール誘導体、グアニジン、炭酸グアニジン、ニトログアニジン、ジシアンジアミド、ニトロアミノグアニジン及びニトロアミノグアニジン硝酸塩から選ばれる1種以上のグアニジン誘導体並びに(b)塩基性金属硝酸塩を含有するガス発生剤組成物。
IPC (8件):
C06D 5/00 ,  B60R 21/26 ,  C06B 31/08 ,  C06B 31/12 ,  C06B 33/04 ,  C06B 33/06 ,  C06B 33/08 ,  C06B 45/08
FI (8件):
C06D 5/00 Z ,  B60R 21/26 ,  C06B 31/08 ,  C06B 31/12 ,  C06B 33/04 ,  C06B 33/06 ,  C06B 33/08 ,  C06B 45/08
Fターム (4件):
3D054DD21 ,  3D054DD30 ,  3D054DD33 ,  3D054FF20
引用特許:
審査官引用 (4件)
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