特許

J-GLOBAL ID：200903032665770260

ホログラム

発明者： 植田健治
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 韮澤 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-327685
公開番号（公開出願番号）：特開平5-165388
出願日： 1991年12月11日
公開日（公表日）： 1993年07月02日
要約：

【要約】【目的】 温度変化によっても干渉パターンの乱れが生じないホログラム。【構成】 ホログラフィック干渉パターンが記録された感材層1と、感材層1に密着する支持基材層2とからなる層構成を有するホログラムにおいて、βを支持基材の線熱膨張係数(K-1)、β’を感材の線熱膨張係数(K-1)、T0 をホログラフィック干渉パターン記録時の温度(K)、Tを後処理温度を含む使用環境温度(K)とするとき、支持基材2の線熱膨張係数βと感材1の線熱膨張係数β’が、|β-β’|×|T-T0 |≦1/100の関係を満たすとき、ホログラフィック干渉パターンの乱れが生じない。

請求項（抜粋）：

ホログラフィック干渉パターンが記録された感材層と、感材層に密着する支持基材層とからなる層構成を有するホログラムにおいて、支持基材の線熱膨張係数βと感材の線熱膨張係数β’が、以下に示す関係にあることを特徴とするホログラム:|β-β’|×|T-T0 |≦1/100ただし、β :支持基材の線熱膨張係数(K-1)β’:感材の線熱膨張係数(K-1)T0 :ホログラフィック干渉パターン記録時の温度(K)T :後処理温度を含む使用環境温度(K)である。

IPC (3件)：

G03H 1/02 ,  G03F 7/004 521 ,  G03F 7/038 505