特許

J-GLOBAL ID：200903032672929959

プラズマ処理装置

発明者： 岡本 紀代子
出願人/特許権者： 住友金属工業株式会社
代理人 (1件)： 穂上 照忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-071931
公開番号（公開出願番号）：特開平5-275379
出願日： 1992年03月30日
公開日（公表日）： 1993年10月22日
要約：

【要約】【目的】プラズマ処理におけるパーティクルの発生防止。【構成】(1) 少なくとも排気系のバリアブルオリフィス4を加熱する手段10を設けたプラズマ処理装置。。(2) 反応室1とバリアブルオリフィス4との間に、排気管延長部3を設けたプラズマ処理装置。(3) 上記(1) と(2) を組み合わせたプラズマ処理装置。(4) ゲートバルブ2を反応室1とバリアブルオリフィス4との間に置いた上記(1)〜(3) のプラズマ処理装置。図2に示すように、反応室および排気系の全体を加熱するのが望ましい。【効果】パーティクル発生の主原因であるバリアブルオリフィスを加熱し、あるいは反応室から遠ざけることによって、パーティクル発生を効果的に防止できる。

請求項（抜粋）：

プラズマを発生する手段を有し、発生したプラズマにより試料を処理するための反応室と、この反応室内にガスを供給するためのガス導入管と、前記反応室内を排気し圧力を制御するために設けられた排気管、バリアブルオリフィス、ゲートバルブおよび排気ポンプを含む排気系を備えたプラズマ処理装置であって、少なくとも前記バリアブルオリフィス部を加熱する手段を備えることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/302 ,  C23F 4/00 ,  H05H 1/46

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平1-306580
  
• 特開平1-092367
  
• 特開平1-155100