特許

J-GLOBAL ID：200903032676513676

レイアウトパターンデータ補正装置、補正方法及び半導体装置の製造方法並びに記録媒体

発明者： 小野 祐作
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-262901
公開番号（公開出願番号）：特開2002-083757
出願日： 2000年08月31日
公開日（公表日）： 2002年03月22日
要約：

【要約】【課題】 レイアウトパターンから突起、切り込み及び段差領域を削除し、レイアウトパターンのデータ量を削減できるレイアウトパターン補正装置及び方法を提供する。【解決手段】 回路のレイアウトパターンにおいて、突起、切り込み及び段差等の所定の形状を有する領域を削除すべき領域(削除対象領域)とし、その削除対象領域を構成する辺を抽出する削除対象領域の辺の抽出部3と、抽出した辺に基いて削除用図形を生成する削除用図形生成部4と、レイアウトパターンと削除用図形とに基いて所定の演算処理を行なうことにより、レイアウトパターンから削除対象領域を削除する図形演算部5とを備える。

請求項（抜粋）：

回路のレイアウトパターンにおいて、所定の形状を有する領域を削除対象領域として、該削除対象領域を構成する辺を抽出する辺抽出手段と、抽出した辺に基いて削除用パターンを生成する削除用パターン生成手段と、前記レイアウトパターンと、前記削除用パターンとに基いて所定の演算処理を行なうことにより、前記レイアウトパターンから前記削除対象領域を削除する図形演算手段とを備えたことを特徴とするレイアウトパターンデータ補正装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G06F 17/50 658 ,  H01L 21/82

FI (4件)：

G03F 1/08 A ,  G06F 17/50 658 M ,  H01L 21/30 541 M ,  H01L 21/82 C

Fターム (11件)：

2H095BB01 ,  5B046AA08 ,  5B046BA04 ,  5B046GA06 ,  5F056CD09 ,  5F064DD10 ,  5F064DD14 ,  5F064EE01 ,  5F064HH02 ,  5F064HH06 ,  5F064HH11