特許
J-GLOBAL ID:200903032680870319
含フッ素化合物を含む光学薄膜とその形成方法、および光反射防止性物品
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
中尾 充
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-155427
公開番号(公開出願番号):特開平11-001633
出願日: 1997年06月12日
公開日(公表日): 1999年01月06日
要約:
【要約】【課題】耐擦傷性、耐久性に優れ、形成容易な低屈折率の光学薄膜。【解決手段】化1の一般式(1)で示される化合物を含有する組成物を硬化して形成した、厚さ30〜700nm、屈折率が1.45以下の光学薄膜を提供する。一般式(1)の化合物中、nが4〜12であって、A1 ,A2 ,A3 ,A4のいずれかがアクリロイル基、かついずれかにウレタン結合残基をもつ化合物が好適である。前記化合物を基材表面に塗布し、ラジカル熱重合、光重合、電子線重合などにより重合、硬化して形成するとよい。単独、又はハードコート、高屈折率膜や高導電性膜などと組合わせ、CRT、プラズマディスプレイ、液晶パネル、ガラス、レンズなどにおいて可視光線の反射防止に用いることができる。【化1】
請求項(抜粋):
一般式(1)で示される化合物を含有する組成物を硬化してなり、かつ、屈折率が1.45以下であることを特徴とする光学薄膜。【化1】
IPC (6件):
C09D 5/00
, C09D 4/02
, C09D175/16
, G02B 1/11
, G09F 9/00 318
, H01J 5/08
FI (7件):
C09D 5/00 M
, C09D 5/00 C
, C09D 4/02
, C09D175/16
, G09F 9/00 318 A
, H01J 5/08
, G02B 1/10 A
引用特許:
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