回転式基板乾燥装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大坪隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-354897
公開番号（公開出願番号）：特開平10-189530
出願日： 1996年12月20日
公開日（公表日）： 1998年07月21日
要約：

【要約】【課題】乾燥工程における基板の乾燥不良を防止することのできる回転式基板乾燥装置を提供することを目的とする。【解決手段】回転式基板乾燥装置は、チャンバ11とカバー13とにより形成された空間内に、湿度制御および温度制御した外気を供給するための空調ユニット50を有する。この空調ユニット50は、プレフィルタ54を通過して供給される外気を冷却することにより除湿するための冷却部55と、冷却部57を通過して供給される外気を加熱することにより温度制御するための加熱部56と、ファン57と、化学フィルタ58と、パーティクル除去フィルタ59とを備える。

請求項（抜粋）：

基板を回転させることにより基板に付着した液滴を除去して乾燥させる回転式基板乾燥装置において、基板を通過させるための開口部を有するチャンバと、前記開口部を閉鎖するためのカバーと、前記チャンバとカバーとにより形成された空間内に湿度制御され、かつ、温度制御された気体を供給する気体供給手段と、を備えることを特徴とする回転式基板乾燥装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 361 , F26B 11/18

FI (2件)：

H01L 21/304 361 S , F26B 11/18

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