特許
J-GLOBAL ID：200903032684389364

マスクパターン及び照明条件の設定方法

発明者：
斉藤 謙治

斉藤 謙治 について

, 
山添 賢治

山添 賢治 について

, 
鈴木 章義

鈴木 章義 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-160741
公開番号（公開出願番号）：特開2003-318100
出願日： 2002年04月23日
公開日（公表日）： 2003年11月07日
要約：
【要約】【課題】 マスクパターンと照明条件を比較的簡単に設定する方法を提供する。【解決手段】 所望のパターンと、当該所望のパターンのよりも寸法の小さな補助パターンとが配列されたマスクを、前記所望のパターンが解像され、かつ、前記補助パターンの解像が抑制されるように、複数種類の光で照明して前記マスクを経た光を被露光体に投影光学系を介して投影する露光方法に適したマスクパターン及び照明条件を設定する方法であって、前記所望のパターンのデータを形成する工程と、前記補助パターンのデータを形成する工程と、前記所望のパターンのデータ及び前記補助パターンのデータに基づいて前記複数種類の光を使用した照明の有効光源を規定する照明条件を設定する工程と、前記所望のパターンが露光可能かどうかを判断する工程とを有することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
所望のパターンと、当該所望のパターンよりも寸法の小さな補助パターンとが配列されたマスクを、前記所望のパターンが解像され、かつ、前記補助パターンの解像が抑制されるように、照明して前記マスクを経た光を被露光体に投影光学系を介して投影する露光方法に適したマスクパターン及び照明条件を設定する方法であって、前記所望のパターンのデータを形成する工程と、前記補助パターンのデータを形成する工程と、前記所望のパターンのデータ及び前記補助パターンのデータに基づいて前記複数種類の光を使用した照明の有効光源を規定する照明条件を設定する工程と、前記所望のパターンが露光可能かどうかを判断する工程とを有することを特徴とする方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521
FI (5件)：
G03F 1/08 A ,  G03F 1/08 B ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 C ,  H01L 21/30 502 P
Fターム (6件)：
2H095BB01 ,  2H095BB02 ,  2H095BB36 ,  5F046AA25 ,  5F046BA04 ,  5F046DA30
引用特許：
審査官引用 (9件)
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