特許

J-GLOBAL ID：200903032688624503

感光性樹脂組成物、感光性エレメント及びプリント配線板の製造法

発明者： 加藤 琢郎 ,  塚田 勝重 ,  土屋 勝則 ,  鈴木 健司 ,  向山 吉之
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-233561
公開番号（公開出願番号）：特開平8-095242
出願日： 1994年09月28日
公開日（公表日）： 1996年04月12日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 厚膜でも解像度に優れ、かつ耐熱性、可撓性及び耐めっき性に優れた高信頼性ソルダマスクを形成することができる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びこれらを用いたプリント配線板の製造法を提供する。【構成】 (a)ノボラック型エポキシ樹脂と、不飽和カルボン酸とを、付加反応させて得られる不飽和化合物の2級水酸基に、イソシアナートエチルメタクリレートを反応させて得られる光重合性不飽和化合物、(b)一般式(III)(式中、R1、R2及びR3は、二価の有機基を示し、R2及びR3が複数個存在するときは、互いに異なっていてもよく、n及びmは繰り返し単位の個数を示す正の整数である)で示されるポリアミドエポキシ樹脂(C)並びに(c)活性光により遊離ラジカルを生成する光開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びプリント配線板の製造法。

請求項（抜粋）：

(a)オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂及びハロゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂からなる群から選ばれた少なくとも1種のノボラック型エポキシ樹脂と、不飽和カルボン酸とを、酸当量/エポキシ当量比が0.2〜1.0の範囲で付加反応させて得られる不飽和化合物の2級水酸基に、イソシアナートエチルメタクリレートを、イソシアナート当量/水酸基当量比が0.2〜1.2の範囲で反応させて得られる光重合性不飽和化合物、(b)一般式(I)【化1】(式中、R1は、二価の有機基を示す)で示されるエポキシ化合物(A)と一般式(II)【化2】(式中、R2及びR3は、それぞれ独立して二価の有機基を示し、R2及びR3が複数個存在するときは、複数のR2は互いに異なっていてもよく、R3が複数となる場合は互いに異なっていてもよく、nは繰り返し単位の個数を示す正の整数である)で示されるアミド基含有ジイソシアナート化合物(B)とを〔エポキシ化合物(A)〕/〔アミド基含有ジイソシアナート化合物(B)〕(モル比)が1を超えるようにして反応させて得られる一般式(III)【化3】(式中、R1は一般式(I)におけるものと同意義であり、R2、R3及びnは一般式(II)におけるものと同意義であり、mは繰り返し単位の個数を示す正の整数である)で示されるポリアミドエポキシ樹脂(C)並びに(c)活性光により遊離ラジカルを生成する光開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物。

IPC (9件)：

G03F 7/027 515 ,  G03F 7/027 513 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/035 ,  G03F 7/038 503 ,  G03F 7/40 501 ,  H05K 3/06 ,  H05K 3/18 ,  H05K 3/28