特許

J-GLOBAL ID：200903032689019018

脂環構造を有するビニルエーテルの共重合体、及びこれを含むレジスト用ベースポリマー

発明者： 大森 秀樹 ,  山岸 孝則 ,  谷口 政信 ,  高橋 英二 ,  三輪 拓也
出願人/特許権者： 丸善石油化学株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人アルガ特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-133688
公開番号（公開出願番号）：特開2003-327628
出願日： 2002年05月09日
公開日（公表日）： 2003年11月19日
要約：

【要約】 (修正有)【解決手段】 (a)アクリル酸誘導体及びメタクリル酸誘導体から選択されたモノマー単位と、(b)下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有する共重合体、並びにこれを含有することを特徴とするレジスト用ベースポリマー。(式中、R1、R2及びR3は、水素原子、水酸基、アルコキシ基、ハロゲン原子又は炭素数1〜6のアルキル基を示し;Aは単結合、炭素数1〜4のアルキレン基、又は当該アルキレン基とエーテル結合、エステル結合及びカルボニル基から選ばれる含酸素基とを組み合わせた2価の基を示し;Bは炭素数5〜30の脂環式炭化水素基を示す。)。【効果】 アクリル系レジスト材料の長所である透明性、解像性等を損なうことなく、ドライエッチング耐性を向上させることが可能であり、ArFエキシマレーザー等の短波長を露光光源とするレジスト用ベースポリマーとして好適に使用することができる。

請求項（抜粋）：

(a)アクリル酸誘導体及びメタクリル酸誘導体から選択されたモノマー単位と、(b)下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有する共重合体。【化1】(式中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立して水素原子、水酸基、アルコキシ基、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を示し;Aは単結合、置換基を有していてもよい炭素数1〜4のアルキレン基、又は当該アルキレン基とエーテル結合、エステル結合及びカルボニル基から選ばれる含酸素基とを組み合わせた2価の基を示し;Bは置換基を有していてもよい炭素数5〜30の脂環式炭化水素基を示す。R2又はR3の一部と、A又はBの一部が互いに結合して環を形成していてもよい。)。

IPC (4件)：

C08F220/12 ,  C08F216/14 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

C08F220/12 ,  C08F216/14 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (38件)：

2H025AA01 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB06 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025FA10 ,  2H025FA17 ,  4J100AE09Q ,  4J100AG08Q ,  4J100AJ02P ,  4J100AL03P ,  4J100AL08P ,  4J100AM14P ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04Q ,  4J100BA11P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA72P ,  4J100BB00Q ,  4J100BB18P ,  4J100BC04P ,  4J100BC07P ,  4J100BC07Q ,  4J100BC08P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100JA38