特許
J-GLOBAL ID：200903032697505592
オゾン処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
村上 智司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-284918
公開番号（公開出願番号）：特開2003-092292
出願日： 2001年09月19日
公開日（公表日）： 2003年03月28日
要約：
【要約】【課題】高濃度オゾンガスを基板表面に導いて、十分な膜厚の酸化膜を基板表面に生成し得るオゾン処理装置を提供する。【解決手段】オゾン処理装置1は、基板が載置される載置台と、載置台上の基板Kを加熱する加熱手段と、載置台の上方に、これと対向して配設され、オゾンを含んだ処理ガスが流通する処理ガス流路、冷却流体が流通する冷却流体流路、及び処理ガス流路に連通し、且つ載置台との対向面に開口する処理ガス吐出孔を具備し、処理ガス吐出孔から載置台上の基板Kに向けて処理ガスを吐出するガス供給ヘッド20と、処理ガス流路に処理ガスを供給する処理ガス供給手段40と、冷却流体流路に冷却流体を供給して、これを循環させる冷却流体循環手段60とを備える。ガス供給ヘッド20に、載置台との対向面からその反対面に貫通する貫通孔を、処理ガス吐出孔の近傍に穿設する。
請求項（抜粋）：
基板が載置される載置台と、前記載置台上の基板を加熱する加熱手段と、前記載置台の上方に、これと対向して配設され、オゾンを含んだ処理ガスが流通する処理ガス流路、冷却流体が流通する冷却流体流路、及び前記処理ガス流路に連通し、且つ前記載置台との対向面に開口する処理ガス吐出孔を具備し、前記処理ガス吐出孔から前記載置台上の基板に向けて前記処理ガスを吐出するガス供給ヘッドと、前記処理ガス流路に前記処理ガスを供給する処理ガス供給手段と、前記冷却流体流路に前記冷却流体を供給して、これを循環させる冷却流体循環手段とを設けて構成したオゾン処理装置であって、前記ガス供給ヘッドに、前記載置台との対向面からその反対面に貫通する貫通孔を、前記処理ガス吐出孔の近傍に穿設したことを特徴とするオゾン処理装置。
FI (2件)：
H01L 21/31 E
, H01L 21/31 B
5F045AA03
, 5F045AA20
, 5F045AB32
, 5F045AC11
, 5F045AD07
, 5F045AF03
, 5F045BB08
, 5F045DP03
, 5F045DQ10
, 5F045EF05
