特許
J-GLOBAL ID：200903032703197463
分子線結晶成長用基板ホルダおよび分子線結晶成長法
発明者：
,
,
,
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-265933
公開番号（公開出願番号）：特開平5-109875
出願日： 1991年10月15日
公開日（公表日）： 1993年04月30日
要約：
【要約】【目的】 分子線結晶成長において、基板を加熱するに際しスリップの発生を抑制することができる基板ホルダを提供する。【構成】 基板13周縁部における複数の箇所に接触して基板を支持する複数の支持片12a、12b、12cおよび12dを備え、これらの支持片は、基板13の周縁部の〈110〉部から離れた部分に接触できるよう所定の間隔をあけて設けられる基板ホルダ10。
請求項（抜粋）：
分子線結晶成長装置内で基板を分子線にさらすため、前記基板の周縁部を支持することにより前記基板を保持する分子線結晶成長用基板ホルダにおいて、前記基板周縁部における複数の箇所に接触して前記基板を支持する複数の支持片を備え、前記複数の支持片は、前記基板周縁部の〈110〉部から離れた部分に接触できるよう所定の間隔をあけて設けられる、分子線結晶成長用基板ホルダ。
IPC (3件)：
H01L 21/68
, C30B 25/12
, H01L 21/203
