特許

J-GLOBAL ID：200903032706317028

遠赤外線乾燥装置、乾燥装置構成体及び乾燥方法

発明者： 鈴木 ▲アキラ▼
出願人/特許権者： 大東製機株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-116107
公開番号（公開出願番号）：特開2002-267356
出願日： 2001年03月12日
公開日（公表日）： 2002年09月18日
要約：

【要約】【課題】遠赤外線をプリント基板に塗布されたレジストインクに放射させた状態でその表面からレジストインク中の溶剤を大気に迅速に排出させることによって、プリント基板の後工程で行われるリソグラフィ工程で微細な配線パターンに断線を生じることを防止できる。【解決手段】金属表面を備える遠赤外線放射層から波長約3〜約6ミクロンの遠赤外線をプリント基板に放射する。この被乾燥物体温度が約180°C以下になるように該基板に向けて加圧媒体を吹き付ける。

請求項（抜粋）：

金属表面を備える遠赤外線放射層から被乾燥物体基板に塗布された材料のもつ最大吸光度に相当する波長約3〜約6ミクロンの遠赤外線を放射するための遠赤外線放射体と、遠赤外線を所定の時間放射するための放射時間可変手段と、前記遠赤外線放射体と被乾燥物体基板との距離を可変するための距離可変手段と、乾燥処理室内温度を調節するための温度調節手段と、前記被乾燥物体温度が約180°C以下になるように該基板に向けて加圧媒体を吹き付けるための加圧媒体吹付け装置とを備える遠赤外線乾燥装置。

IPC (8件)：

F26B 3/30 ,  F26B 3/04 ,  F26B 15/18 ,  F26B 21/04 ,  F26B 21/10 ,  G03F 7/20 501 ,  H05K 3/00 ,  H05K 3/06

FI (8件)：

F26B 3/30 ,  F26B 3/04 ,  F26B 15/18 A ,  F26B 21/04 A ,  F26B 21/10 A ,  G03F 7/20 501 ,  H05K 3/00 Z ,  H05K 3/06 E

Fターム (40件)：

2H097BB02 ,  2H097CA11 ,  2H097LA09 ,  3L113AA02 ,  3L113AB02 ,  3L113AB06 ,  3L113AC08 ,  3L113AC10 ,  3L113AC36 ,  3L113AC45 ,  3L113AC46 ,  3L113AC48 ,  3L113AC51 ,  3L113AC67 ,  3L113AC83 ,  3L113BA34 ,  3L113CA04 ,  3L113CA08 ,  3L113CB05 ,  3L113CB06 ,  3L113CB22 ,  3L113CB24 ,  3L113CB39 ,  3L113DA04 ,  3L113DA25 ,  5E339AB01 ,  5E339BC01 ,  5E339CC01 ,  5E339CD01 ,  5E339CE12 ,  5E339CE15 ,  5E339CF15 ,  5E339DD04 ,  5E339DD05 ,  5E339EE04 ,  5E339EE05 ,  5E339FF02 ,  5E339FF03 ,  5E339FF10 ,  5E339GG02