プラズマアドレス表示装置の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐藤隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-114959
公開番号（公開出願番号）：特開平8-304804
出願日： 1995年05月12日
公開日（公表日）： 1996年11月22日
要約：

【要約】【目的】プラズマ室を区画する隔壁の先端部を研磨する際に、隔壁の倒れを有効に防止できると共に、研磨剤を隔壁間に残さず、また、長時間研磨、他種類の研磨剤使用に対応できるプラズマアドレス表示装置の製造方法を提供する。【構成】隔壁5をプラズマ基板ガラス31又は前記誘電体シート4に形成する工程と、形成した隔壁5間の間隙を補強剤RAで充填する工程と、研磨液を用いて補強剤RAを研磨しながら隔壁5を研磨する工程と、隔壁5の研磨後、隔壁5間の補強剤RAを除去する工程で隔壁を研磨する。

請求項（抜粋）：

液晶セルとプラズマセルとが誘電体シートを介して積層され、該プラズマセルを構成するプラズマ基板ガラスと該誘電体シートとが多数並列的に設けられた隔壁を介して対向するプラズマアドレス表示装置の製造方法であって、前記隔壁を前記プラズマ基板ガラス又は前記誘電体シートに形成する工程と、形成した隔壁間の間隙を補強剤で充填する工程と、研磨液を用いて前記補強剤を研磨しながら前記隔壁を研磨する工程と、隔壁の研磨後、前記隔壁間の前記補強剤を除去する工程とを有することを特徴とするプラズマアドレス表示装置の製造方法。

IPC (4件)：

G02F 1/1333 , G02F 1/13 101 , G02F 1/133 505 , G09F 9/313

FI (4件)：

G02F 1/1333 , G02F 1/13 101 , G02F 1/133 505 , G09F 9/313 A

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