特許
J-GLOBAL ID：200903032716845340
誘導式マイクロ波照射装置
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-207893
公開番号（公開出願番号）：特開平5-047468
出願日： 1991年08月20日
公開日（公表日）： 1993年02月26日
要約：
【要約】【目的】 誘導式マイクロ波照射装置のマイクロ波の分布を均一にする改良に関し、簡単且つ容易にマイクロ波の分布を均一にすることが可能となる誘導式マイクロ波照射装置の提供を目的とする。【構成】 マグネトロン1から出されたマイクロ波を、反射波を吸収するアイソレータ2を通し、スタブチューナ3で出力を調整し、Hコーナ4で方向を変換して負荷ボックス6内に導入する誘導式マイクロ波照射装置において、この負荷ボックス6の壁面からの突出長さによってマイクロ波の調整を行うことが可能な導電性材料からなる突起7を具備するように構成する。
請求項（抜粋）：
マグネトロン(1) から出されたマイクロ波を、反射波を吸収するアイソレータ(2)を通し、スタブチューナ(3)で出力を調整し、Hコーナ(4)で方向を変換して負荷ボックス(6) 内に導入する誘導式マイクロ波照射装置において、前記負荷ボックス(6) の壁面からの突出長さによってマイクロ波の調整を行うことが可能な導電性材料からなる突起(7) を具備することを特徴とする誘導式マイクロ波照射装置。
IPC (4件)：
H05B 6/74
, H01L 21/302
, H05B 6/70
, H05H 1/46
