特許
J-GLOBAL ID：200903032718838090

XYステージの制御方法および装置

発明者：
森貞 雅博

森貞 雅博 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-024905
公開番号（公開出願番号）：特開平9-199409
出願日： 1996年01月19日
公開日（公表日）： 1997年07月31日
要約：
【要約】【課題】 簡単な構成で整定時間のばらつきによる問題を解決し、効率的なXYステージの制御が行なえるようにする。【解決手段】 1つの走査区間が加速、整定待ち、および定速走行の各区間を含む複数の走査区間を有し、整定待ち区間における整定時間を各走査区間で一定とした目標軌跡1に基づいて位置または速度目標値を生成し、この目標値に従ってXYステージ14を駆動するXYステージ制御方法において、目標軌跡を、テーブル2に記憶した各走査区間毎の整定時間に基づいて修正する。
請求項（抜粋）：
1つの走査区間が加速、整定待ち、および定速走行の各区間を含む複数の走査区間を有し、前記整定待ち区間における整定時間を各走査区間で所定の値とした目標軌跡に基づいて位置または速度目標値を生成し、この目標値に従ってXYステージを駆動するXYステージ制御方法において、前記目標軌跡を、テーブルに記憶した各走査区間毎の整定時間に基づいて修正することを特徴とするXYステージ制御方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/68
FI (5件)：
H01L 21/30 516 B ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/68 K ,  H01L 21/30 518
引用特許：
出願人引用 (4件)
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