特許
J-GLOBAL ID：200903032733028194

粉粒体処理装置

発明者：
細川 益男

細川 益男 について

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須原 一樹

須原 一樹 について

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横山 豊和

横山 豊和 について

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猪木 雅裕

猪木 雅裕 について

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近藤 光

近藤 光 について


出願人/特許権者：
株式会社ホソカワ粉体技術研究所

株式会社ホソカワ粉体技術研究所 について


代理人 (2件)： 北村 修一郎 ,  山▲崎▼ 徹也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-363244
公開番号（公開出願番号）：特開2005-125226
出願日： 2003年10月23日
公開日（公表日）： 2005年05月19日
要約：
【課題】 被処理物の連続処理効率を高めると共に、均一な製品を得ることができる粉粒体処理装置を提供する。【解決手段】 被処理物1を加圧しながら撹拌混合すべく、水平方向に延出する回転軸心2の回りに駆動回転自在な回転部材3と、回転部材3に取り付けられ、被処理物1を加圧するインナーピース4と、被処理物1をインナーピース4との間で加圧する受け面5を内周に備えた筒状のアウターピース6とを備えた粉粒体処理装置であって、インナーピース4が回転軸心2の延出方向に沿って複数設けてある。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被処理物を加圧しながら撹拌混合すべく、 水平方向に延出する回転軸心の回りに駆動回転自在な回転部材と、 当該回転部材に取り付けられ、前記被処理物を加圧するインナーピースと、 前記被処理物を前記インナーピースとの間で加圧する受け面を内周に備えた筒状のアウターピースとを備えた粉粒体処理装置であって、 前記インナーピースが前記回転軸心の延出方向に沿って複数設けてある粉粒体処理装置。
IPC (3件)：
B01J2/10 ,  B01F7/04 ,  B01F15/06
FI (4件)：
B01J2/10 Z ,  B01F7/04 A ,  B01F7/04 Z ,  B01F15/06 A
Fターム (13件)：
4G004FA01 ,  4G037AA05 ,  4G037CA18 ,  4G078AA01 ,  4G078AB05 ,  4G078BA01 ,  4G078CA08 ,  4G078CA09 ,  4G078DA01 ,  4G078DC08 ,  4G078EA03 ,  4G078EA05 ,  4G078EA10
引用特許：
審査官引用 (4件)
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