特許
J-GLOBAL ID：200903032740732743
回折格子作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-209541
公開番号（公開出願番号）：特開平6-036994
出願日： 1992年07月15日
公開日（公表日）： 1994年02月10日
要約：
【要約】【目的】 回折格子パターンのピッチの均一性の向上を図り、高精度の回折格子を得る。【構成】 全体の回折格子パターンの大きさは一定とし、描画位置座標データの開始座標XSをパターン1,パターン2,パターン3でX1,X2,X3と変化させ、同時に、電子ビーム露光データへの変換時のチップサイズを、回折格子パターンの設計長X0にそれぞれX1,X2,X3を加えた値とする。これら3種の回折格子描画パターンデータにより、同じステージ座標で(ステージ移動のない状態で)、重ねて露光を行う。これにより、全く同じ位置に、主偏向器のDAコンバータの高次のビットの切り替え位置が変えられて、回折格子パターンが形成される。
請求項（抜粋）：
ディジタル・アナログ変換器を用いた主偏向器により描画フィールド内の位置座標を指定して電子ビームを露光し回折格子パターンを形成する回折格子作製方法において、異なる描画位置座標データを有し実質的に同一のパターンとなる回折格子描画パターンデータを複数作成し、これら回折格子描画パターンデータによりステージ移動のない状態で重ねて露光を行って回折格子パターンを形成するようにしたことを特徴とする回折格子作製方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G02B 5/18
, G03F 7/20 504
