特許

J-GLOBAL ID：200903032744752668

パターン形成方法、投影露光装置、光学系及びその設計方法

発明者： 福田 宏 ,  寺澤 恒男 ,  伊東 昌昭 ,  片桐 創一
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 薄田 利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-084901
公開番号（公開出願番号）：特開平7-297103
出願日： 1994年04月22日
公開日（公表日）： 1995年11月10日
要約：

【要約】【目的】複雑な作製工程を要する上に、十分な面精度を得ることが困難な非球面鏡を用いることなく、実現可能な精度で作製できる光学系を用いて、広い露光領域にわたり高い解像度が得られるパターン形成方法を提供すること。【構成】所望のパターン有するマスク11に光10を照射し、マスク11から反射した光を反射光学系を介して基板16上へ投影し、基板上にパターンを転写するときに、この反射光学系に、図(b)に示す非球面Aに代えて、その参照球面Sを反射鏡基板とし、図(c)に示すように回折格子をその表面に配置した反射型回折レンズを含む光学系を用いるパターン形成方法。

請求項（抜粋）：

所望のパターンを有するマスクに光を照射し、該マスクを透過又は反射した光を反射光学系を介して基板上へ投影し、該基板上に上記パターンを転写するパターン形成方法において、上記反射光学系は、反射鏡基板の表面に回折格子が配置された反射型回折レンズを含むことを特徴とするパターン形成方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521