特許
J-GLOBAL ID:200903032754376710
検出方法及び露光方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
志賀 正武 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-103101
公開番号(公開出願番号):特開2002-299216
出願日: 2001年04月02日
公開日(公表日): 2002年10月11日
要約:
【要約】【課題】 投影光学系の結像位置を精度良く検出することができる検出方法、及びこの検出方法によって結像位置を検出された投影光学系を用いた露光方法を提供する。【解決手段】 パターンPAを投影する投影光学系の結像位置を検出する際、パターンPAを投影光学系を介して投影し、投影されたパターンPAを投影光学系の光軸方向の異なる少なくとも2箇所で撮像し、撮像したパターンPAの長さを基に、投影光学系の結像位置を検出する。
請求項(抜粋):
パターンを投影する投影光学系の結像位置を検出する検出方法において、前記パターンを前記投影光学系を介して投影し、前記投影されたパターンを前記投影光学系の光軸方向の異なる少なくとも2箇所で撮像し、前記撮像したパターンの長さを基に、前記投影光学系の結像位置を検出することを特徴とする検出方法。
IPC (3件):
H01L 21/027
, G01M 11/02
, G03F 7/22
FI (3件):
G01M 11/02 B
, G03F 7/22 H
, H01L 21/30 516 A
Fターム (6件):
2G086HH01
, 5F046CB25
, 5F046DA13
, 5F046DB05
, 5F046DB10
, 5F046DB11
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