特許
J-GLOBAL ID：200903032761873355
ECR成膜装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-247548
公開番号（公開出願番号）：特開2001-073149
出願日： 1999年09月01日
公開日（公表日）： 2001年03月21日
要約：
【要約】【課題】 マイクロ波のパワー調整を自動的にかつ瞬時に行うことができるECR成膜装置の提供。【解決手段】 反応室2を挟むように二つのECRプラズマ発生部4A,4Bを備えるECR-CVD装置において、成膜圧力の変動によるマイクロ波パワーの調整ズレをパワーモニタ7A,7Bで検出し、マイクロ波パワーの調整ズレを自動整合器6A,6Bにより補正する。その結果、瞬時の調整が可能となり、安定したECRプラズマが得られるとともに、生産効率の向上を図ることができる。
請求項（抜粋）：
マイクロ波源からのマイクロ波と磁場発生手段による磁場とにより電子サイクロトロン共鳴プラズマを発生させ、その電子サイクロトロン共鳴プラズマを利用して成膜を行うECR成膜装置において、マイクロ波パワーの調整ズレを検出する検出手段と、前記マイクロ波パワーの調整ズレを補正する補正手段とを設けたことを特徴とするECR成膜装置。
IPC (3件)：
C23C 16/511
, G11B 5/84
, G11B 11/105 546
C23C 16/511
, G11B 5/84 B
, G11B 11/105 546 F
4K030AA09
, 4K030AA10
, 4K030BA28
, 4K030FA02
, 4K030KA39
, 4K030KA41
, 4K030LA20
, 5D075EE03
, 5D075FG04
, 5D075GG02
, 5D075GG12
, 5D112AA07
, 5D112AA24
, 5D112FA10
