特許

J-GLOBAL ID：200903032771693541

露光装置及び露光方法

発明者： 小山 元夫 ,  加藤 正紀
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-114680
公開番号（公開出願番号）：特開2001-297975
出願日： 2000年04月17日
公開日（公表日）： 2001年10月26日
要約：

【要約】【課題】 重複領域及び非重複領域において高精度なパターンを形成する。【解決手段】 ワーク上で周辺部が部分的に重なる複数の領域にそれぞれパターンを転写するために、前記周辺部での露光量を徐々に減少させる設定手段を介して前記各領域をエネルギービームで走査露光する方法であって、前記部分的に重なる領域の露光量は、該重なる領域とは異なる領域の露光量とは独立に設定可能でありかつ連続的に調整可能とした。

請求項（抜粋）：

ワーク上で周辺部が部分的に重なる複数の領域にそれぞれパターンを転写するために、前記周辺部での露光量を徐々に減少させる設定手段を介して前記各領域をエネルギービームで走査露光する方法において、前記部分的に重なる領域の露光量は、該重なる領域とは異なる領域の露光量とは独立に設定可能であり、かつ連続的に調整可能であることを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 518 ,  H01L 21/30 514 C

Fターム (3件)：

5F046BA05 ,  5F046DA02 ,  5F046DB01