真空処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐藤一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-077297
公開番号（公開出願番号）：特開平9-270450
出願日： 1996年03月29日
公開日（公表日）： 1997年10月14日
要約：

【要約】【課題】大型かつ大重量の被処理物であっても適切に取り扱うことができる真空処理装置を提供する。【解決手段】被処理物を真空下において処理する処理室と、この処理室に隔離可能に連設された真空排気可能なトランスファー室と、このトランスファー室に隔離可能に連設され、閉鎖可能な搬送口を有する真空排気可能なロードロック室とを設ける。搬送口の傍らの大気側に、上部及び下部大気側ハンドを有する大気側ロボットを設ける。大気側ロボットの傍らに、所定ピッチで配設された複数の大気側載置片を有する大気側カセットを配置する。ロードロック室の内部に、前記所定ピッチよりも大きなピッチで配設された複数の真空側載置片を有する真空側カセットを配置する。トランスファー室の内部に真空側ロボットを配置する。

請求項（抜粋）：

被処理物を真空下において処理する処理室と、この処理室に隔離可能に連設された真空排気可能なトランスファー室と、このトランスファー室に隔離可能に連設された真空排気可能なロードロック室と、このロードロック室に設けられた閉鎖可能な搬送口と、この搬送口の傍らの大気側に設けられた大気側ロボットと、この大気側ロボットに設けられた上部大気側ハンド及び下部大気側ハンドと、前記大気側ロボットの傍らに設けられた大気側カセットと、この大気側カセットに所定ピッチで配設された複数の大気側載置片と、前記ロードロック室の内部に設けられた真空側カセットと、この真空側カセットに前記所定ピッチよりも大きなピッチで配設された複数の真空側載置片と、前記トランスファー室の内部に設けられた真空側ロボットと、を備えたことを特徴とする真空処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 , B65G 49/07 , C23C 14/50

FI (3件)：

H01L 21/68 A , B65G 49/07 C , C23C 14/50 K

引用特許：

審査官引用 (2件)

半導体製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-197990 出願人：国際電気株式会社
特開平4-180246

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