特許

J-GLOBAL ID：200903032808987370

反応性ケイ素基含有イミド化合物の製法

発明者： 岸本 恭尚 ,  赤堀 廉一 ,  大内 克哉 ,  米沢 和弥
出願人/特許権者： 鐘淵化学工業株式会社
代理人 (1件)： 朝日奈 宗太 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-175504
公開番号（公開出願番号）：特開平5-001078
出願日： 1991年07月16日
公開日（公表日）： 1993年01月08日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 長期の保存安定性に優れ、低温で硬化して、耐熱性、耐薬品性の優れた硬化物となる1分子中に2つの反応性ケイ素基を含有するイミド化合物の製法を提供する。【構成】 テトラカルボン酸二無水物、例えばピロメリット酸二無水物と炭素- 炭素二重結合含有有機基を含有する1級アミン、例えばアリルアミンとから1分子中に2つの炭素- 炭素二重結合含有有機基を有するイミド化合物をえ、反応性基を有するヒドロシラン、例えばメチルジメトキシシランでヒドロシリル化することにより、反応性ケイ素含有イミド化合物、例えば式(1)の化合物を製造する。

請求項（抜粋）：

(a) 一般式(I) :【化1】(式中、R0 は炭素数6〜30個の芳香族基を含有する4価の有機基を表わす)で表わされるテトラカルボン酸二無水物と一般式(II):【化2】(式中、R1 は炭素数2〜20個の炭素- 炭素二重結合含有有機基を表わす)で表わされる炭素- 炭素二重結合含有有機基を含有する1級アミンとを有機極性溶媒中で反応させてアミド酸の溶液をえ、(b) ついでこれをイミド化することにより、1分子中に2つの炭素- 炭素二重結合含有有機基を有するイミド化合物とし、(c) (b) でえられたイミド化合物を、ヒドロシリル化触媒の存在下で、一般式(III) :【化3】(式中、R2 は炭素数1〜20個の1価の有機基または一般式(IV):【化4】(式中、R3 は炭素数1〜10個の1価の炭化水素基を表わし、3個のR3 は同一でも異なっていてもよい)で表わされる基を表わし、Xは水酸基または加水分解性基を表わし、aは1、2または3であり、R2 、Xが2個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、また異なっていてもよい)で表わされる反応性基を有するヒドロシランでヒドロシリル化することを特徴とする1分子中に2つの反応性ケイ素基を含有するイミド化合物の製法。

IPC (2件)：

C07F 7/12 ,  C07F 7/18