特許
J-GLOBAL ID:200903032811661664
4,6-ジアミノレゾルシンの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
最上 正太郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-213013
公開番号(公開出願番号):特開2001-039935
出願日: 1999年07月28日
公開日(公表日): 2001年02月13日
要約:
【要約】【課題】4,6-ジアミノレゾルシンを工業的に有利に製造する新規な方法を提供する。【解決手段】次の各工程からなる4,6-ジアミノレゾルシンの製造方法。(1)レゾルシンをスルホン化剤と接触させて2,4,6-トリスルホン酸レゾルシンを製造する第一工程、(2)2,4,6-トリスルホン酸レゾルシンをニトロ化剤と接触させて2-スルホン酸-4,6-ジニトロレゾルシンを製造する第二工程、(3)2-スルホン酸-4,6-ジニトロレゾルシンを加水分解して4,6-ジニトロレゾルシンを製造する第三工程、(4)4,6-ジニトロレゾルシンを還元して4,6-ジアミノレゾルシンを製造する第四工程。
請求項(抜粋):
次の各工程からなる4,6-ジアミノレゾルシンの製造方法。(1)レゾルシンをスルホン化剤と接触させて2,4,6-トリスルホン酸レゾルシンを製造する第一工程、(2)2,4,6-トリスルホン酸レゾルシンをニトロ化剤と接触させて2-スルホン酸-4,6-ジニトロレゾルシンを製造する第二工程、(3)2-スルホン酸-4,6-ジニトロレゾルシンを加水分解して4,6-ジニトロレゾルシンを製造する第三工程、(4)4,6-ジニトロレゾルシンを還元して4,6-ジアミノレゾルシンを製造する第四工程。
IPC (5件):
C07C213/02
, C07C215/80
, C07B 61/00 300
, C07C201/14
, C07C205/23
FI (5件):
C07C213/02
, C07C215/80
, C07B 61/00 300
, C07C201/14
, C07C205/23
Fターム (25件):
4H006AA02
, 4H006AC51
, 4H006AC52
, 4H006AC61
, 4H006BA28
, 4H006BA35
, 4H006BA36
, 4H006BA37
, 4H006BA66
, 4H006BA69
, 4H006BB31
, 4H006BD70
, 4H006BE02
, 4H006BE03
, 4H006BE43
, 4H006BE60
, 4H006BE90
, 4H006BJ50
, 4H006BN30
, 4H006BU46
, 4H039CA41
, 4H039CA71
, 4H039CB40
, 4H039CD60
, 4H039CE20
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