特許
J-GLOBAL ID：200903032815799954
電子線露光装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-238107
公開番号（公開出願番号）：特開平6-084773
出願日： 1992年09月07日
公開日（公表日）： 1994年03月25日
要約：
【要約】【目的】 電子線露光装置の描画時間を短縮して、処理速度を高める。【構成】 半導体基板1の片面に所定の間隔で複数の冷陰極電子源11を設けて、冷陰極電子源11を描画を行うべき領域に対向させるようにする。冷陰極電子源11は、例えば、半導体基板1の基板面に設けられた円錐状の突起部2と、突起部2の周囲で突起部の先端よりも基板面から離間した位置に絶縁層3a,3bを介して積層され、環状の内端面を有する2層の電極層4a,4bとで構成する。
請求項（抜粋）：
半導体基板の片面に所定の間隔で複数の冷陰極電子源を設けて、上記冷陰極電子源を描画を行うべき領域に対向させるようにしたことを特徴とする電子線露光装置。
FI (2件)：
H01L 21/30 341 W
, H01L 21/30 341 B
