特許
J-GLOBAL ID：200903032816895841
プラズマ発生器
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-584727
公開番号（公開出願番号）：特表2002-530683
出願日： 1999年11月23日
公開日（公表日）： 2002年09月17日
要約：
【要約】微細製造プラズマ発生器およびプラズマ発生方法であって、プラズマ発生器は:基板チップ;基板チップで定められ、そこを通して使用される検体が供給される1つの入力ポートと、1つの出力ポートそしてその中に使用されるプラズマが発生されるプラズマ発生領域とを含むチャンバーと;プラズマ発生領域内でプラズマを発生させるために使用される電圧が供給される第1および第2電極とを含む。
請求項（抜粋）：
微細製造プラズマ発生器であって、 基板チップと、 基板チップで定められ、そこを通して使用される検体が供給される1つの入力ポートと、1つの出力ポートと、その中で使用されるプラズマが発生されるプラズマ発生領域とを含むチャンバーと、 プラズマ発生領域内でプラズマを発生させるために、使用時に電圧がその間に供給される第1および第2電極と、を含むプラズマ発生器。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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