特許

J-GLOBAL ID：200903032831520587

プラズマ処理装置

発明者： 吉識 隆裕 ,  小町 恭一 ,  金山 修太
出願人/特許権者： 住友金属工業株式会社
代理人 (1件)： 井内 龍二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-162021
公開番号（公開出願番号）：特開平8-031593
出願日： 1994年07月14日
公開日（公表日）： 1996年02月02日
要約：

【要約】 (修正有)【構成】 導波管15a、15bと、導波管15a、15bに接続され、誘電体線路12を形成すべく配置された誘電体層12a、12bと、誘電体層12a、12bに中空層24a、24bを挟んで対向するマイクロ波導入板22a、22bと、マイクロ波導入板22a、22bで上面開口部が気密に封止された金属製反応容器11とを具備したプラズマ処理装置において、誘電体層12a、12b、中空層24a、24b及びマイクロ波導入板22a、22bがマイクロ波導入板支持体12cにより分割され、複数の導波管15a、15bが分割されたそれぞれの誘電体層12a、12bに接続されているプラズマ処理装置。【効果】 比較的安価な装置により、大面積の試料に均一にプラズマ処理を施すことができ、プラズマ処理装置を連続運転した場合でも、マイクロ波導入板22a、22bの割れや誘電体線路12の熱変形等を防止することができる。

請求項（抜粋）：

マイクロ波導入路と、該マイクロ波導入路に接続され、マイクロ波導波路を形成すべく配置された誘電体層と、該誘電体層に中空層を挟んで対向するマイクロ波導入板と、該マイクロ波導入板で上面開口部が気密に封止された金属製反応容器とを具備したプラズマ処理装置において、前記誘電体層、前記中空層及び前記マイクロ波導入板が金属板により分割され、複数のマイクロ波導入路が分割されたそれぞれの誘電体層に接続されていることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5件)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (2件)：

H01L 21/302 B ,  H01L 21/302 H