特許

J-GLOBAL ID：200903032848234146

真空装置用基板搬送装置

発明者： 芦田 敏和
出願人/特許権者： 株式会社芦田
代理人 (1件)： 西澤 利夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-300684
公開番号（公開出願番号）：特開平8-037220
出願日： 1993年11月30日
公開日（公表日）： 1996年02月06日
要約：

【要約】【目的】 簡単で、低価な構造の、基板にダメージを与えることのない搬送装置とする。【構成】 真空装置内で被処理物である基板を収めた収納カセット室と基板の反応、成膜、もしくは加工を行う処理室との間で基板搬送を行う装置であって、(a)基板を一定の間隔にして収める収納カセットを保持し、このカセットを上下に昇降できるエレベータ機構を備えたカセット室と、(b)収納カセット室から基板を一枚づつ取り出し、もしくは挿入する直線的に移動するカセット側引出し装置と、(c)引き出された基板を受けて上下に昇降できる機構を持ち、処理室側に配置された引出し装置に移動させるスライド構造を備えたX-Yテーブルと、(d)X-Yテーブルより基板を取り出して処理室に挿入する処理室側引出し装置、および(e)処理室側引出し装置から被処理物である基板を受けて上下に昇降する機構を持つ処理室とを備えたことを特徴とする真空装置用基板搬送装置。

請求項（抜粋）：

真空装置内で被処理物である基板を収めた収納カセット室と基板の反応、成膜、もしくは加工を行う処理室との間で基板搬送を行う装置であって、(a)基板を一定の間隔にして収める収納カセットを保持し、このカセットを上下に昇降できるエレベータ機構を備えたカセット室と、(b)収納カセット室から基板を一枚づつ取り出し、もしくは挿入する直線的に移動するカセット側引出し装置と、(c)引き出された基板を受けて上下に昇降できる機構を持ち、処理室側に配置された引出し装置に移動させるスライド構造を備えたX-Yテーブルと、(d)X-Yテーブルより基板を取り出して処理室に挿入する処理室側引出し装置、および(e)処理室側引出し装置から被処理物である基板を受けて上下に昇降する機構を持つ処理室とを備えたことを特徴とする真空装置用基板搬送装置。

IPC (7件)：

H01L 21/68 ,  C23C 14/50 ,  C23C 16/44 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065