マルチチャンバエキシマ又は分子フッ素ガス放電レーザのフッ素注入制御

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：熊倉禎男 , 大塚文昭 , 西島孝喜 , 須田洋之
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-534655
公開番号（公開出願番号）：特表2008-515231
出願日： 2005年09月19日
公開日（公表日）： 2008年05月08日
要約：

【課題】少なくとも1つの発振チャンバ及び少なくとも1つの増幅チャンバから成り、発振チャンバの出力が増幅チャンバ、例えば、主発振器電力増幅器(MOPA)構成フッ素注入コントローラ及び方法において増幅されるマルチチャンバエキシマ又は分子フッ素ガス放電レーザシステムを提供する。【解決手段】フッ素注入制御システムを有し、少なくとも1つの発振チャンバと少なくとも1つの増幅チャンバとを含み、増幅チャンバが、この少なくとも1つのパワーチャンバ内で増幅される発振器出力レーザ光パルスを生成するマルチチャンバエキシマ又は分子ハロゲンガス放電レーザシステム及びその作動方法。本発明は、少なくとも1つの発振チャンバ及び少なくとも1つの増幅チャンバの一方の少なくとも第1の作動パラメータと少なくとも1つの発振チャンバ及び少なくとも1つの増幅チャンバの第2の作動パラメータの間の差とに基づいて、少なくとも1つの発振チャンバ及び少なくとも1つの増幅チャンバの一方において消費されたハロゲンガスの量を推定し、少なくとも1つの発振チャンバ及び少なくとも1つの増幅チャンバの他方の少なくとも第3の作動パラメータに基づいて、少なくとも1つの発振チャンバ及び少なくとも1つの増幅チャンバの他方において消費されたハロゲンガスの量を推定し、かつ少なくとも1つの発振チャンバにおける推定ハロゲンガス消費量と少なくとも1つの増幅チャンバにおけるハロゲンガス消費量とを表す出力を生成するハロゲンガス消費推定器と、フッ素消費推定器からの推定フッ素消費量出力と複数の重み付け注入決定判断を含むコスト関数とに基づいて、少なくとも1つの発振チャンバ及び少なくとも1つの増幅チャンバに対するハロゲンガス注入の量を判断するハロゲンガス注入コントローラとを含むことができる。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

フッ素注入制御システムを有し、少なくとも1つの発振チャンバと少なくとも1つの増幅チャンバとを含み、該少なくとも1つの増幅チャンバが、この少なくとも1つのパワーチャンバ内で増幅される発振器出力レーザ光パルスを生成する、マルチチャンバエキシマ又は分子ハロゲンガス放電レーザシステムであって、ハロゲンガス消費推定器、を含み、前記ハロゲンガス消費推定器は、少なくとも1つの発振チャンバ及び少なくとも1つの増幅チャンバの一方において消費されたハロゲンガスの量を、該少なくとも1つの発振チャンバ及び該少なくとも1つの増幅チャンバの一方の少なくとも第1の作動パラメータと、該少なくとも1つの発振チャンバ及び該少なくとも1つの増幅チャンバの第2の作動パラメータの間の差とに基づいて推定し、かつ前記少なくとも1つの発振チャンバ及び前記少なくとも1つの増幅チャンバの他方の少なくとも第3の作動パラメータに基づいて、該少なくとも1つの発振チャンバ及び該少なくとも1つの増幅チャンバの他方において消費されたハロゲンガスの量を推定し、かつ前記少なくとも1つの発振チャンバにおける推定ハロゲンガス消費量と、前記少なくとも1つの増幅チャンバにおける前記ハロゲンガス消費量とを表す出力を生成する、ことを特徴とするシステム。

IPC (3件)：

H01S 3/036 , H01S 3/225 , H01S 3/094

FI (3件)：

H01S3/03 J , H01S3/223 E , H01S3/094 G

Fターム (11件)：

5F071AA06 , 5F071AA07 , 5F071HH01 , 5F071JJ05 , 5F172AD06 , 5F172AD07 , 5F172DD04 , 5F172EE22 , 5F172NN34 , 5F172NP14 , 5F172NQ03

引用特許：

出願人引用 (7件)

米国特許出願出願番号第10/953,100号
米国特許出願出願番号第10/631,349号
米国特許出願出願番号第10/356,168号

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