特許

J-GLOBAL ID：200903032873844544

微小孔性研磨パッド

発明者： プラサド,アバネシュワー
出願人/特許権者： キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
代理人 (6件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  蛯谷 厚志 ,  小林 良博 ,  吉井 一男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-143456
公開番号（公開出願番号）：特開2009-274208
出願日： 2009年06月16日
公開日（公表日）： 2009年11月26日
要約：

【課題】比較的低コストの方法を用いて製造することができると共に、使用の前にほとんどまたは全く調整を必要としない研磨パッドを提供する。【解決手段】多孔質発泡体を含む、化学機械研磨用の研磨パッド、およびそれらの生産のための方法。1つの態様において、多孔質発泡体は、50μm以下の平均孔径を有し、75%以上の孔が平均孔径の20μm以内の孔径を有する。他の態様において、多孔質発泡体は、20μm以下の平均孔径を有する。更に他の態様において、多孔質発泡体は、多峰性の孔径分布を有する。生産の方法は、(a)ポリマー樹脂を、高い温度および圧力にガスを晒すことにより生成される超臨界ガスと組み合わせて単相溶液を生成すること、および(b)該単相溶液から研磨パッドを形成することを含み、該超臨界ガスはガスを高い温度および圧力に晒すことによって発生させる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

多峰性分布が20以下の孔径最大値を持つ多峰性孔径分布を有する多孔質発泡体を含む化学機械研磨用の研磨パッド。

IPC (3件)：

B24B 37/00 ,  H01L 21/304 ,  C08J 9/12

FI (3件)：

B24B37/00 L ,  H01L21/304 622F ,  C08J9/12

Fターム (41件)：

3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058CA05 ,  3C058CB01 ,  3C058CB03 ,  3C058CB04 ,  3C058CB10 ,  3C058DA12 ,  3C058DA17 ,  4F074AA16 ,  4F074AA17 ,  4F074AA32 ,  4F074AA38 ,  4F074AA39 ,  4F074AA42 ,  4F074AA48 ,  4F074AA56 ,  4F074AA65 ,  4F074AA66 ,  4F074AA71 ,  4F074AA72 ,  4F074AA74 ,  4F074AA76 ,  4F074AA78 ,  4F074AB01 ,  4F074AB05 ,  4F074BA32 ,  4F074BA33 ,  4F074CA22 ,  4F074CA24 ,  4F074CA26 ,  4F074CC03Y ,  4F074CC04Y ,  4F074CC32Y ,  4F074CC34Y ,  4F074CC64Y ,  4F074DA02 ,  4F074DA03 ,  4F074DA08 ,  4F074DA09 ,  4F074DA56

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭64-058475