特許
J-GLOBAL ID：200903032877838794
スルーホールの閉鎖方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡戸 昭佳 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-117171
公開番号（公開出願番号）：特開2002-314246
出願日： 2001年04月16日
公開日（公表日）： 2002年10月25日
要約：
【要約】【課題】 充填物の上下にさほど大きな凹みができないようにして,製品の信頼性や上層の平坦性の向上を図り,また汚染の問題も生じないようにしたスルーホールの閉鎖方法を提供すること。【解決手段】 基板のスルーホールを閉鎖するに際し,スルーホールの箇所20に穴を有するマスク22を板面上に形成する。そして,液接触現像タイプの液状フォトソルダレジスト10をスルーホールの箇所20に供給してスルーホールを充填し,指触乾燥した後,溶媒処理に供する。これにより,マスク22および余分な液状フォトソルダレジスト10を除去する。このため,溶媒処理後に板面上に液状フォトソルダレジスト10が汚染物として残ることがなく,また,溶媒処理後におけるスルーホール中の液状フォトソルダレジスト10の上下の凹みが小さい。
請求項（抜粋）：
スルーホールを有する板状体に対し,スルーホールの箇所に液接触現像タイプの液状フォトソルダレジストを供給してスルーホールを液接触現像タイプの液状フォトソルダレジストで充填し(工程1),液接触現像タイプの液状フォトソルダレジストに溶媒を接触させてスルーホールからのはみ出し部分を除去する(工程2)ことを特徴とするスルーホールの閉鎖方法。
Fターム (3件)：
5E317AA24
, 5E317CD27
, 5E317GG20
