特許
J-GLOBAL ID：200903032878421382
ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法並びにパターン転写方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-008790
公開番号（公開出願番号）：特開平7-219204
出願日： 1994年01月28日
公開日（公表日）： 1995年08月18日
要約：
【要約】【目的】 多数の微小透光部からなる遮光領域の形成範囲を最少限に押さえつつ重ね露光による欠陥の発生のおそれを防止できるハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法並びに該ハーフトーン型位相シフトマスクを用いたパターン転写方法を提供する。【構成】 略正方形状をなした転写領域Iと該転写領域Iの周辺の非転写領域In との境界に隣接する非転写領域であるはみだし領域ΔI内を実質的に露光に寄与しない強度の露光光を透過させる半透光部で構成し、かつ、該はみだし領域ΔI内であって転写領域Iの輪郭を仕切る正方形の4隅の各一辺に接する部位に、半透光部に解像限界以下の大きさの多数の微小透光部を設けて構成した略正方形状の遮光部6をそれぞれ1個ずつ設けた。
請求項（抜粋）：
微細パターン転写用のマスクであって、透明基板上の転写領域に形成するマスクパターンを、実質的に露光に寄与する強度の露光光を透過させる透光部と実質的に露光に寄与しない強度の露光光を透過させる半透光部とで構成し、かつこの半透光部を通過する光の位相をシフトさせて該半透光部を通過した光の位相と前記透光部を通過した光の位相とを異ならしめることにより、前記透光部と半透光部との境界近傍を通過した光が互いに打ち消し合うようにして境界部のコントラストを良好に保持できるようにしたハーフトーン型位相シフトマスクであって、前記転写領域と該転写領域の周辺の非転写領域との境界に隣接する非転写領域を実質的に露光に寄与しない強度の露光光を透過させる半透光部で構成し、かつ、前記転写領域に隣接する非転写領域の半透光部に、解像限界以下の微小透光部を多数配列することにより露光光を遮光させる遮光領域を設けたハーフトーン型位相シフトマスクにおいて、このハーフトーン型位相シフトマスクを用い、かつ、該ハーフトーン型位相シフトマスクの転写領域には確実に投影光が照射されるがその周辺の非転写領域にはできるだけ投影光が照射されないように可能なかぎり投影光の照射範囲を規制する開口領域を有するアパーチャーを用いて被転写体上に転写位置を変えながら繰返し投影露光を行うことにより、該ハーフトーン型位相シフトマスクの転写領域の像が被転写体上に互いの境界が近接するようにして次々と形成されるようにした場合において、前記ハーフトーン型位相シフトマスクの転写領域の像を転写像とし、前記開口領域を通過して転写領域からはみだして投影光が照射される可能性のある非転写領域をはみ出し領域とし、このはみ出し領域の被転写体上の像をはみ出し像とそれぞれしたとき、互いに隣接する転写像とはみ出し像が重なることによって実質的に露光に寄与する露光量に達する可能性のあるはみ出し領域又は該はみ出し領域とその近傍の領域のみに前記遮光領域を設けるようにしたことを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 514 C
, H01L 21/30 528
