特許

J-GLOBAL ID：200903032879407790

微粒子構造体の製造方法

発明者： 日野 威
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (2件)： 磯村 雅俊 ,  渡邉 昌幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-276736
公開番号（公開出願番号）：特開2004-117456
出願日： 2002年09月24日
公開日（公表日）： 2004年04月15日
要約：

【課題】フォトニック結晶として利用できる高品質の微粒子構造体の表面あるいは微粒子構造体中に微粒子によりパターニングする際に、同一パターンが形成された微粒子構造体を大量に製造する微粒子構造体の製造方法の提供。【解決手段】微粒子が基板上に任意形状にパターニングされた試料を、窒素雰囲気中でトルエンに浸漬した後(a、b)、試料を引き上げて乾燥・ベークしフェニルトリクロロシランの自己組織化単分子層を形成し、剥離するための表面処理を行う。以上の工程で形成された型を、型が形成された面を上にして、容器の底付近に配置し、容器にシリカ微粒子、純水からなる微粒子分散液を満たして静置して微粒子を堆積させ(c)、分散液を乾燥させて微粒子構造体を形成する(d)。その後、微粒子構造体と型とを剥がして凹形状がパターニングされた微粒子構造体を得る(e)。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

基板上に第1の微粒子構造体により構成される任意2次元形状の微粒子凸パターンが形成され、かつ、該第1の微粒子構造体が基板上に固定化されたものを型として用い、該型の表面に、後工程で剥離するための表面処理を施し、その後、前記型の上に粒子を堆積させて第2の微粒子構造体を形成する工程を施し、その後、堆積させた前記第2の微粒子構造体を剥離界面において前記型から剥離して微粒子構造体を得ることを特徴とする微粒子構造体の製造方法。

IPC (3件)：

G02B6/13 ,  B81C1/00 ,  G02B6/12

FI (3件)：

G02B6/12 M ,  B81C1/00 ,  G02B6/12 Z

Fターム (8件)：

2H047PA02 ,  2H047PA21 ,  2H047PA24 ,  2H047QA01 ,  2H047QA02 ,  2H047QA03 ,  2H047QA04 ,  2H047TA41