特許

J-GLOBAL ID：200903032883629803

熱処理方法及びその装置

発明者： 斎藤 滋 ,  大和田 樹志
出願人/特許権者： ウシオ電機株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-398434
公開番号（公開出願番号）：特開2002-198322
出願日： 2000年12月27日
公開日（公表日）： 2002年07月12日
要約：

【要約】【課題】 イオン注入した不純物のプロファイルを崩すことなく、また、パターンの揮発などの問題を起こすことなく注入された不純物を活性化する熱処理方法及びその装置を提供することにある。【解決手段】 被処理物の一部またはその全体の昇温速度が2×104〜2×106°C/秒の範囲となる加熱手段を備えたことを特徴とする熱処理装置。

請求項（抜粋）：

被処理物の一部またはその全体を加熱処理する工程において、被処理物の昇温速度が2×104〜2×106°C/秒の範囲であることを特徴とする熱処理方法。

IPC (4件)：

H01L 21/265 602 ,  H01L 21/26 ,  H01L 29/78 ,  H01L 21/268

FI (4件)：

H01L 21/265 602 B ,  H01L 21/268 J ,  H01L 21/26 J ,  H01L 29/78 301 F

Fターム (12件)：

5F140AA00 ,  5F140AA13 ,  5F140BA01 ,  5F140BD05 ,  5F140BF04 ,  5F140BF11 ,  5F140BF17 ,  5F140BG14 ,  5F140BK13 ,  5F140BK20 ,  5F140BK21 ,  5F140CB04

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭60-258928