特許

J-GLOBAL ID：200903032884839135

ポジ型レジスト組成物

発明者： 漢那 慎一 ,  水谷 一良
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-151101
公開番号（公開出願番号）：特開2002-341543
出願日： 2001年05月21日
公開日（公表日）： 2002年11月27日
要約：

【要約】【課題】 160nm以下、特にF2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には157nmの光源使用時に十分な透過性を示し、且つ良好な溶解コントラストを有するポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (A)特定の構造の繰り返し単位を少なくとも一つ有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び(C)溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(I)及び(II)で示される繰り返し単位を各々少なくとも一つ有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び(C)溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】一般式(I)及び(II)式中、R1及びR5は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。R2、R3、R6及びR7は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基、又は置換基を有していてもよい、アルコキシ基、アシル基、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基もしくはアリール基を表す。R4は、置換基を有していてもよい、アルキル基、アシル基又はアルコキシカルボニル基を表す。R30は、アルキル基を表す。また、R4とR30とは、互いに結合して環を形成してもよい。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (49件)：

2H025AA00 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CC03 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AB07R ,  4J100AC22S ,  4J100AC26S ,  4J100AE38S ,  4J100AE39S ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AM02R ,  4J100AR11S ,  4J100BA02P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA02S ,  4J100BA03H ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03S ,  4J100BA04P ,  4J100BA05P ,  4J100BA06P ,  4J100BA16H ,  4J100BA20S ,  4J100BA22S ,  4J100BA40R ,  4J100BB13Q ,  4J100BB18Q ,  4J100BB18S ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC04S ,  4J100BC08S ,  4J100BC09S ,  4J100BC27S ,  4J100BC53P ,  4J100BC53S ,  4J100HA08 ,  4J100HA61 ,  4J100HE22 ,  4J100HE26 ,  4J100JA38