特許
J-GLOBAL ID：200903032892976141
不活性ガス中の微量不純ガス成分の除去方法および除去装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大石 征郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-087666
公開番号（公開出願番号）：特開平6-015132
出願日： 1992年03月10日
公開日（公表日）： 1994年01月25日
要約：
【要約】【目的】 不活性ガス中に含まれる微量の窒素、酸素、二酸化炭素、その他の不純ガス成分を低温で除去でき、さらには充填材の使用効率を高めることでガス精製のためのコストを下げることのできる工業的な方法を提供することを目的とする。【構成】 アルミナなどの無機多孔質基材上に、PVD法によりチタン、ジルコニウムなどの多結晶の金属薄膜を形成して充填材(P) を得る。この充填材(P) に、窒素、酸素、二酸化炭素などの微量の不純ガス成分を含む不活性ガスを温度100〜300°Cで接触させる。
請求項（抜粋）：
無機多孔質基材上にPVD法により金属薄膜を形成した充填材(P) に、微量の不純ガス成分を含む不活性ガスを接触させることを特徴とする不活性ガス中の微量不純ガス成分の除去方法。
IPC (2件)：
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