特許

J-GLOBAL ID：200903032895383516

電子線描画装置

発明者： 冨吉 力生 ,  伊藤 博之 ,  依田 晴夫
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立計測エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 春日 讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-191783
公開番号（公開出願番号）：特開平9-045602
出願日： 1995年07月27日
公開日（公表日）： 1997年02月14日
要約：

【要約】【目的】 描画動作中におけるビームドリフトをも補正可能で、描画精度が向上された電子線描画装置を実現する。【構成】 横寸法設定部11W及び縦寸法設定部11Hのデータを乗算器15で乗算し照射電子ビームの面積を求め乗算器16に供給し照射時間設定部11Tの照射時間データと乗算し試料8の電子ビーム照射量を求める。乗算器16の出力信号をビームドリフト補正回路18に供給し描画中に加算して補正計算を行う。補正回路18で算出された△x(t)を示すデータを加算器19xに供給しデータ算出部11Xの出力データに加算しD/Aコンバータ12x、アンプ13xを介し位置偏向器7に供給する。補正回路18で算出した△y(t)を示すデータを加算器19Yに供給しデータ算出部11Yの出力データに加算しD/Aコンバータ12Y、アンプ13Yを介し位置偏向器7に供給する。位置偏向器7は電子ビームの照射量に伴い電子ビームの照射位置を補正する。

請求項（抜粋）：

電子銃から発生した電子ビームを、成形偏向器により所望の形状に成形し、成形した電子ビームを 位置偏向指令手段からの信号に基づき、位置偏向器により固体表面上の所望の位置に、所望の時間、照射し、描画する電子線描画装置において、固体表面上に照射される電子ビームの照射量を所定の照射単位毎に算出する照射量算出手段と、上記照射量算出手段により算出された照射量を、一定時間毎に累積加算し、この累積加算した照射量に応じた照射位置補正値を算出する照射位置補正手段と、上記照射位置補正手段により算出された補正値を、上記位置偏向指令手段からの信号に加算する加算手段と、を備えることを特徴とする電子線描画装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (5件)：

H01L 21/30 541 E ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 541 D